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(青岛福润德微电子设备有限公司)扩散炉是半导体器件及大规模集成电路制造过程中用于对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的一种热加工设备。

其组成有：加热炉（扩散炉主机）、超净化操作系统、气源系统、控制系统等。选用工控机微控方式或者程控方式操作。

微控扩散炉技术指标：

1、可处理硅片尺寸2~12英寸

2、外形形式：卧式1~4管结构

3、工作温度：200℃~1300℃

4、恒温区长度及精度：200mm~1100mm

5、单点温度稳定性、重复性：<=1℃/24h

6、温度斜变：可控升温速率：5℃/min

7、送片装置：全自动悬臂推拉舟、拉杆式推拉舟

8、气路系统：1——5路工艺气体/管

9、气体控制：全自动MFC

10、控制方式：工控机、触摸屏